工作原理
PlasCalc通过测量等离子体发射谱线，获得控制等离子发生过程所必需的所有重要参数。从而为优化控制等离子体发生过程和效果提供非常有用的反馈信息。测量发射光谱是获得等离子组分和密度、电子密度、电子温度等反应参数的有效途径。由等离子体发射光谱的强度值可计算得出等离子颗粒密度及电子密度；由同一电子能量吸收谱线的有效组合同另外谱线的对比可计算得出电子温度。这样，就获得了控制等离子发生过程所必需的所有重要参数（等离子体组分和密度、电子密度、电子温度等）。
●实时宽带光谱探测系统
●简单方便的软件界面
●的等离子体发生过程监测工具●USB即插即用接口，使用方便
●非接触式材料分析，不刮伤、损坏测试样品
测量等离子体镀膜沉积情况，监测等离子蚀刻，检查表面清洁处理，分析等离子反应腔控制情况，监测异常的污染和排放现象，磁控溅射，光学镀膜，终点测量(End-pointing)，新开发等离子过程的监测和控制优化。
